В микрообработке фемтосекундный УФ лазер обладают преимуществами, делающими его незаменимым для задач, требующих высокой точности и пространственного разрешения. За счет меньшей длины волны и соответственно меньшего дифракционного предела УФ излучение возможно сфокусировать в пятно меньшего диаметра по сравнению с излучением ИК и видимого диапазонов. Это позволяет уменьшить масштаб создаваемых микроструктур и минимизирует тепловое воздействие на материал.
Фемтосекундные УФ лазеры особенно хорошо подходят для обработки сложных хрупких материалов с высокой температурой плавления, таких как керамика, стекло, сапфир. Кроме того, УФ излучение хорошо поглощается такими материалами, как медь, использующаяся при производстве печатных плат, нержавеющая сталь, серебро, никель, золото, стекло, органические материалы, а также кремний, оксид индия-олова (ITO) и ЖК полимеры (LCP), широко применяющиеся в производстве передовых электротехнических устройств.
Технические характеристики
Модель; GXF 343
Длина волны; 343 нм
Диапазон частоты следования импульсов; 1 Гц – 1000 кГц
Длительность импульса; 400 фс – 800 фс
Средняя мощность; 5 Вт – 30 Вт @1 МГц
Средняя стабильность мощности; <1% в течение 8 часов
Стабильность от импульса к импульсу; <3% rms
Пространственная мода; TEM00 (M² <1,3)
Полный угол расхождения пучка; <2 мрад
Диаметр пучка; 1/e² 2,0±0,2 мм
Округлость пучка; >85%
Стабильность наведения пучка; <50 мкрад
Направление поляризации; Горизонтальная
Коэффициент поляризации; >100:1
Рабочее напряжение; 90 В – 260 В переменного тока
Охлаждение; Жидкостное
Применения
УФ фемтосекундные лазеры находят наиболее широкое применение в микроэлектронике, используются для обработки полимеров, полупроводников, металлов, резки органических светодиодов (OLED), кремниевых пластин, тонких полимерных пленок, гибких печатных плат (FPC), микроструктурирования ITO.