УФ субнаносекундный лазер серии GXS

  • Интегрированная компактная прочная конструкция
  • Высокое качество пучка M2 <1,3
  • Мощность до 20 Вт
  • Высокая стабильность при длительной эксплуатации, возможность непрерывного промышленного использования

Чертеж
  • Высокое качество пучка M2 <1,3
  • Мощность до 30 Вт
  • Интегрированная компактная прочная конструкция

Описание

УФ субнаносекундный лазер имеет наименьший диаметр сфокусированного пучка по сравнению с ИК и зеленым лазерами, что обеспечивает меньшее тепловое воздействие на материалы и лучшую точность, поэтому GXS 355 может применяться для точечного удаления материалов с подложек, например, в производстве защитных стекол

Технические характеристики

Применения

УФ субнаносекундный лазер применяется в микрообработке, научных исследованиях и т. д.

Гравировка стекла
Обработка полимеров
Удаление краски со стеклянной подложки