Лазер с длиной волны 515 нм позволяет достичь большей точности обработки и лучшего пространственного разрешения по сравнению с ИК лазером за счет меньшего дифракционного предела и соответственно размера пятна сфокусированного лазерного излучения и теплового воздействия на материал. Также излучение более коротких длин волн лучше поглощается такими материалами, как медь, используемая в производстве печатных плат, прочие металлы: золото, алюминий, сталь, а также кремний и различные полимеры, используемые в производстве передовых электронных компонентов (LCP, MPI).
Технические характеристики
Модель; GXF 515
Длина волны; 515 нм
Диапазон частоты следования импульсов; 1 Гц – 1000 кГц
Длительность импульса; 400 фс – 800 фс
Средняя мощность; 10 Вт – 40 Вт @1 МГц
Средняя стабильность мощности; <1% в течение 8 часов
Стабильность от импульса к импульсу; <3% rms
Пространственная мода; TEM00 (M² <1,3)
Полный угол расхождения пучка; <2 мрад
Диаметр пучка; 1/e² 2,0±0,2 мм
Округлость пучка; >85%
Стабильность наведения пучка; <50 мкрад
Направление поляризации; Вертикальная
Коэффициент поляризации; >100:1
Рабочее напряжение; 90 В – 260 В переменного тока
Охлаждение; Жидкостное
Применения
Зеленый фемтосекундный лазер применяется для резки и микрообработки органических светодиодов (OLED), стекла, полимеров, гибких печатных плат, интегральных схем, тонкой металлической фольги и производстве топливных форсунок.